株式会社フィジックス テクノロジー Physix Technology Inc.

光学素子設計/加工装置

光学素子設計/加工装置
光学素子設計/加工装置
光学素子設計/加工装置
光学素子設計/加工装置
光学素子設計/加工装置
光学素子設計/加工装置

光学素子設計/加工装置

高度な知識と豊富な経験が必要なメタレンズの設計・設計請負から成形などの開発プロジェクトを承っております。
またフレキシブルな微細加工を行うためにマスクを必要としないデスクトップのマスクレス露光装置をご紹介します。


マスクレス露光装置SMART PRINT UV

マスクレス露光装置SMART PRINT UV

プロジェクタ技術を活用したマスクレス露光装置です。
デスクトップ型ですので、設置場所を選ばず簡単にご使用いただけます。

主な特徴

描画分解能:1.5μm
描画範囲及び分解能を対物レンズで可変
CADファイルまたはBMPイメージに対応
i, h, g-line露光用フォトレジストに対応
カメラ画像による位置決め機能
サンプルサイズ:最大5”角ウエハに対応
シリコン、硝子、金属、樹脂など様々なサブストレートに対応



本体仕様

スタンダード アドバンスド
光源 露光: 385nm / 位置決め: 590nm 露光: 385nm / 位置決め: 590nm
最小加工サイズ 1.5μm 1.5μm
位置決め精度@1cm²プリント面積 2μm 1μm
最大露光面積 70x70mm 110x110mm
サブストレートサイズ 4”以下 5”x5”以下
描画スピード 77mm²/分 220mm²/分
装置寸法 W:52xD:52xH:69cm W:52xD:52xH:69cm
PHAOSソフトウエア機能 ステップ&リピート機能
自動doseテスト
スティッチング機能
位置調整機能
CADデータ変換(GDSII, dxf, cif, oas)
ステップ&リピート機能
自動doseテスト
スティッチング機能
位置調整機能
CADデータ変換(GDSII, dxf, cif, oas)

対物レンズ仕様

1x
描画面積(mm) 10.56x5.9
最小加工サイズ(μm) 15
2.5x
描画面積(mm) 4.2x2.4
最小加工サイズ(μm) 6
5x
描画面積(mm) 2.1x1.2
最小加工サイズ(μm) 3
10x
描画面積(mm) 1.06x0.59
最小加工サイズ(μm) 1.5

アプリケーション例

マイクロ流体セル

マイクロ流体セル

マイクロ流体セル

マイクロ流体セル

マイクロ電子部品

マイクロ電子部品

光電子部品

光電子部品

バイオ・メディカルデバイス

バイオ・メディカルデバイス

バイオ・メディカルデバイス

バイオ・メディカルデバイス

2Dマテリアル

2Dマテリアル

マイクロ流体セル
マイクロ電子部品
光電子部品
バイオ・メディカルデバイス
2Dマテリアル

メタレンズの設計・設計請負

メタレンズの設計・設計請負

PlanOpSimはサブストレート上にサブ波長のナノピラー(主に酸化金属)を配したメタレンズ/メタサーフェスの設計専門ソフトです。
メタレンズ/メタサーフェスはナノピラーにて振幅, 位相, 分散および偏光を制御するフラット光学系の一種です。 メタサーフェスは数百万のナノピラーが規則性を持って最適化及びレイアウトされ所望の光学機能を達成するものです。
光源の波長に対するナノピラーを構成する酸化金属のメタアトムの屈折率と周辺媒質を厳密解析し、位相と効率分布を算出します。
この時、位相のレンジが2πに達成するか否か、ピラー径に対しリニアな位相分布の部分で効率が高い範囲にて、達成可能なピラー径のレンジが決まります。
PlanOpSimはODA(Overlapping Domain Analysis)と言う手法を採用する事で、膨大となるナノピラーの厳密解析の不可に対し、精度とスピードのバランスを考慮しています。
PlanOpSimは設計上トレードオフの関係にあるレンズの大きさにおけるサブ波長のナノピラーを同時に扱えます。
メタサーフェスのデータを市販の光線追跡ソフトにエクスポートする事も可能です。
メタサーフェスの設計プロジェクトも承っております。SOLNIL社の成形特性を考慮した設計を行います。


メタレンズの設計・設計請負

メタレンズ成形

SOLNIL 社は従来のSol-gel 技術を昇華し、酸化金属との混合マテリアルをナノインプリントによりサブストレート上にパターン成形し、キュアリング処理で酸化金属以外の物質を排除し、安価で迅速にメタサーフェス加工を実現します。
TiO2 をはじめ様々なメタアトムの屈折率を微調整して活用できます。
ナノ構造のアスペクト比は4:1ではありますが、メタサーフェス成形技術のユニークな新提案と自負しております。
アスペクト比~ 10:1 が必要なプロジェクトには、従来のフォトレジストを用いた露光法またはナノインプリントによるパターン成形後にエッチング加工で実現可能です。

トップへ戻る

047-370-8600